ナノプリントマスクによる超近接系外惑星撮像の実証

ナノプリント技術で製造したPIAACMC位相マスクを実際の望遠鏡に適用し、回折限界以下の超近接領域での高コントラスト撮像と連星検出に成功した。

• 地球型系外惑星の直接撮像に向けて高コントラストと小規模な内部動作角を両立するPIAACMCに着目した。
• 二光子重合を用いたマイクロ3Dプリンタによりサブミクロン精度で位相マスクを独自製造した。
• MagAO-X装置を用いた観測により、回折限界以下での連星検出と高いコントラスト性能を実証した。

原文タイトル: Sub-diffraction-limited coronagraphic imaging with nano-printed PIAACMC phase masks

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